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在对材料光刻阈值特性进行研究的基础上,提出了一种可有效克服材料非线性特性影响,提高微透镜浮雕深度的新方法--基底曝光法.在曝......
在分析单层和多层衍射元件衍射效率的基础上，推导出光学系统中多层衍射元件浮雕深度和基底材料的一般关系式，并对这些变量进行优化，得......
